Здравствуйте, vsb, Вы писали:

Россия сама сможет производить 7-нанометровые CPU? Институт прикладной физики РАН создаёт первый отечественный литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам

В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.

Россия сама сможет производить 7-нанометровые CPU? Институт прикладной физики РАН создаёт первый отечественный литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам
Сейчас создан демонстрационный образец, который разработчики называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Сейчас в России в промышленных масштабах могут работать с микроструктурами только более 65 нанометров (в основном 90 нм и более). Тем не менее пока говорить о грандиозном прорыве немного рано — нужно пройти три этапа разработки за 6 лет до появления полноценного промышленного оборудования.

В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. Однако упор на этом этапе будет сделан не на высокую скорость её работы или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. Однако и этого должно быть достаточно, чтобы разработка стала привлекательной для инвесторов и фабрик, особенно с учётом конкурентной стоимости самой установки и её обслуживания.

На втором этапе в 2026 году появится «бета-машина». Системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах, что и будет сделано — на этом рубеже важно интегрировать её в реальные технологические процессы и отладить, «подтянув» соответствующее оборудование для других этапов производства.

Наконец, на третьем этапе (2026–2028 годы) российский литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, станет работать быстро и точно.

Здравствуйте, vsb, Вы писали:

Россия сама сможет производить 7-нанометровые CPU? Институт прикладной физики РАН создаёт первый отечественный литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам

В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.

Россия сама сможет производить 7-нанометровые CPU? Институт прикладной физики РАН создаёт первый отечественный литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам
Сейчас создан демонстрационный образец, который разработчики называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Сейчас в России в промышленных масштабах могут работать с микроструктурами только более 65 нанометров (в основном 90 нм и более). Тем не менее пока говорить о грандиозном прорыве немного рано — нужно пройти три этапа разработки за 6 лет до появления полноценного промышленного оборудования.

В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. Однако упор на этом этапе будет сделан не на высокую скорость её работы или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. Однако и этого должно быть достаточно, чтобы разработка стала привлекательной для инвесторов и фабрик, особенно с учётом конкурентной стоимости самой установки и её обслуживания.

На втором этапе в 2026 году появится «бета-машина». Системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах, что и будет сделано — на этом рубеже важно интегрировать её в реальные технологические процессы и отладить, «подтянув» соответствующее оборудование для других этапов производства.

Наконец, на третьем этапе (2026–2028 годы) российский литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, станет работать быстро и точно.

Китайское импортозамещение в действии: обзор возможностей x86 процессора Kaixian KX-6000G