В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам.

Россия сама сможет производить 7-нанометровые CPU? Институт прикладной физики РАН создаёт первый отечественный литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам
Сейчас создан демонстрационный образец, который разработчики называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Сейчас в России в промышленных масштабах могут работать с микроструктурами только более 65 нанометров (в основном 90 нм и более). Тем не менее пока говорить о грандиозном прорыве немного рано — нужно пройти три этапа разработки за 6 лет до появления полноценного промышленного оборудования.

В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. Однако упор на этом этапе будет сделан не на высокую скорость её работы или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. Однако и этого должно быть достаточно, чтобы разработка стала привлекательной для инвесторов и фабрик, особенно с учётом конкурентной стоимости самой установки и её обслуживания.

На втором этапе в 2026 году появится «бета-машина». Системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах, что и будет сделано — на этом рубеже важно интегрировать её в реальные технологические процессы и отладить, «подтянув» соответствующее оборудование для других этапов производства.

Наконец, на третьем этапе (2026–2028 годы) российский литограф получит более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, станет работать быстро и точно.

В Китае есть и другие™ компании, которым удалось добиться немаленьких успехов в сфере производства современных чипов. Так, AMEC в 2021 году заявила о разработке собственного оборудования по производству 5-нм чипов. Эта же компания заявила о предоставлении оборудования для обработки 300-мм кремниевых подложек, которое может применяться для широкого спектра техпроцессов — от 65 нм до 5 нм.

Более того, еще одна компания из Китая, HSMC, начала™ разворачивать производственную инфраструктуру по выпуску 14-нм процессоров, говорилось и о 7-нм техпроцессе.

Есть и другие™ успехи™ — так, менее известная Ziguang разработала 512-ядерный процессор, выполненный по 7-нм техпроцессу.

Ну а Huawei™ начала™ строить собственный завод по производству современных чипов. Для начала™ — процессора, который получил название Kirin 9006C, он выполнен по 5-нм техпроцессу. Это восьмиядерный чип с частотой работы™ ядра 3,13 ГГц. Фабрику Huawei™ строит™ совместно с SMIC, еще одной достаточно известной компанией из КНР.

Производят в Поднебесной и видеокарты. Весной™ 2022 года были представлены адаптеры MTT S60 и MTT S2000. Автор проекта — компания Moore Threads, она смогла™ всего за год пройти™ путь от идеи до реальных устройств. Что касается карт, то первая™ предназначена для установки в персональных настольных ПК и высокопроизводительных рабочих станциях, она оснащена 8 ГБ памяти™ LPGDDR™4X. А вот вторая™, с 32 ГБ, предназначена для установки в серверах. Техпроцесс — 12 нм, не самый современный, но для поставленной китайцами цели вполне™ достаточно. Так, MTT S60 неплохо справляется с League™ of Legends с высокими настройками графики при разрешении 1920х1080 точек (Full HD).

В целом, Китаю удается пока достигать поставленных в рамках™ государственной программы развития электронной промышленности целей. Два года назад мы писали™ о том, что правительство Китая запустило очень масштабную программу импортозамещения электроники и компонентов. Страна™ вкладывает около $1,5 трлн (это не опечатка) в развитие собственных предприятий, которые, по плану, должны™ производить современные чипы. И результаты есть, причем™ очень явные.