Здравствуйте, VladD2, Вы писали:

VD>европейской ASML, которая выпускает самые современные литографические машины по технологии созданной совместно с российскими учёными.

Да.
И не только ASML, а вообще все, использующие EUV-литографию, т.е. которые используют масочные процессы ниже ~100 нм.
Технологии EUV-излучателей на волнах ниже 15 нм были разработаны в РФ, хотя интеллектуальная собственность осталась у ASML.
Вот такие пируэты. ))

Десяток полтора десятка лет весь мир печатал чипы на основе технологий, разработанных в РФ.


VD>Но заводы эти заработают только через несколько лет. И вот получается, что Китай от США почти не отстаёт. А США отлично показала Китаю, что не нужно жалеть деньги на освоение техпроцессов.

Китай, как и мы, глубоко работают по направлению безмасочной литографии.
Особенность технологии в том, что она требует сосредоточения развитости технологий буквально в "одном месте", в то время, как обычная масочная фотолитография требует серьёзного распыления по нескольким высокотехнологичным направлениям.

Например, всякие обзоры "аналитиков" насчёт того, почему РФ не сможет в одиночку, т.е. без мировой кооперации, выпускать современные чипы — эти рассуждения более-менее верны для масочной технологии, т.к. требуют одновременно развить несколько ключевых технологий.


VD>Ты пойми. Я тебе давно говорю. Вы ставите не на тех. Хотите лечь под сильного — ложитесь под Китай.

Самое забавное, что они на самом деле не хотят ни в коем случае ни под кого ложиться.
Т.е. весь идиотизм ситуации в том, что они решили лечь "ситуацтивно".
Т.е. потеряли лицо сознательно, "потому что сейчас так надо".
Наверняка в будущем надеются из этой зависимости выйти, му-а-ха-ха.

Всё это целиком смотрится настолько ущербно, что просто испанский стыд...

Здравствуйте, VladD2, Вы писали:

VD>европейской ASML, которая выпускает самые современные литографические машины по технологии созданной совместно с российскими учёными.

Да.
И не только ASML, а вообще все, использующие EUV-литографию, т.е. которые используют масочные процессы ниже ~100 нм.
Технологии EUV-излучателей на волнах ниже 15 нм были разработаны в РФ, хотя интеллектуальная собственность осталась у ASML.
Вот такие пируэты. ))

Десяток-полтора лет весь мир печатал чипы на основе технологий, разработанных в РФ.


VD>Но заводы эти заработают только через несколько лет. И вот получается, что Китай от США почти не отстаёт. А США отлично показала Китаю, что не нужно жалеть деньги на освоение техпроцессов.

Китай, как и мы, глубоко работают по направлению безмасочной литографии.
Особенность технологии в том, что она требует сосредоточения развитости технологий буквально в "одном месте", в то время, как обычная масочная фотолитография требует серьёзного распыления по нескольким высокотехнологичным направлениям.

Например, всякие обзоры "аналитиков" насчёт того, почему РФ не сможет в одиночку, т.е. без мировой кооперации, выпускать современные чипы — эти рассуждения более-менее верны для масочной технологии, т.к. требуют одновременно развить несколько ключевых технологий.


VD>Ты пойми. Я тебе давно говорю. Вы ставите не на тех. Хотите лечь под сильного — ложитесь под Китай.

Самое забавное, что они на самом деле не хотят ни в коем случае ни под кого ложиться.
Т.е. весь идиотизм ситуации в том, что они решили лечь "ситуацтивно".
Т.е. потеряли лицо сознательно, "потому что сейчас так надо".
Наверняка в будущем надеются из этой зависимости выйти, му-а-ха-ха.

Всё это целиком смотрится настолько ущербно, что просто испанский стыд...