к переходу на 3 нм готовится и Apple – совершить его она планирует весной 2022 г. с выходом новой модификации планшета iPad Pro.

Тестовое производство 2-нанометровых чипов предварительно назначено на 2023 г. На полную мощность конвейер может заработать как в том же 2023 г., так и спустя год или даже два. Точные сроки Apple и TSMC пока не оговаривают.

Intel совершает рекордный скачок технологий. Она перейдет от 10-нм чипов к суперсовременным 3-нм
https://www.cnews.ru/news/top/2021-07-02_intel_sovershaet_rekordnyj_skachok

Новой топологией открыто интересуется Apple – в марте 2021 г. она присоединилась к ее разработке, желая в дальнейшем стать основным заказчиком 2-нанометровой продукции TSMC. Благодаря помощи Apple TSMC сместила сроки запуска новой линии с 2024 г. на 2023 г.

Авторы утверждают также, что 1-нанометровые нормы обеспечивают энергоэффективность почти на грани физических пределов наноразмерных кремниевых полупроводников.

1-нанометровая топология тоже может увидеть свет в самом ближайшем будущем.

В производстве процессоров нанореволюция. TSMC вот-вот запустит 1-нанометровый техпроцесс
https://www.cnews.ru/news/top/2021-05-21_revolyutsionnyj_proryv_v_proizvodstve

Компания TSMC совершила прорыв в создании 1-нанометровых микросхем, разработав технологию, упрощающую этот процесс.

TSMC работала над этой технологией вместе со специалистами Национального университета Тайваня (НУТ, National Taiwan University) и Массачусетского технологического института (МТИ, Massachusetts Institute of Technology, США).

За пару недель до заявления TSMC об открытии в создании 1-нанометровой микросхемы американская IBM заявила об изобретении первого в мире процессора с топологией 2 нм. Она смогла уместить 50 млрд транзисторов на кристалле размером с ноготь.

	подробнее про 1 нм техпроцесс
	Исследователи Массачусетского технологического института установили, что применение полуметаллического висмута в качестве контактного электрода двумерного материала дает возможность существенно снизить сопротивление и увеличить ток. TSMC подключилась только на следующем этапе, когда оригинальное открытие потребовало доработки. Специалисты TSMC оптимизировали предложенный МТИ процесс осаждения. После этого в дело вступил Национальный институт Тайваня, ученые которого придумали способ сокращения компонентного канала посредством системы литографии пучка ионов гелия.