Здравствуйте, xma, Вы писали:

Немного про перспективы нашего литографа

1. Здесь про ход работ над созданием 28нм литографа.

https://dzen.ru/a/ZfRB8NC2HniyOJVt

Из интересного, там есть вот такая табличка:

На слайде ниже синим цветом показаны пока отсутствующие у нас технологии для изготовления масок, светлозелёным — имеющиеся, а тёмнозелёным — технологии, в которых мы являемся лидерами:

2. Российский EUV-литограф на 28-16-12 нм, почему он будет проще и дешевле, чем у ASML?

Здесь про специфику выбора технологических нюансов и того, насколько легче идти проторенной дорожкой. В частности:

Во-вторых, когда какая-то технология вдруг давала нужный результат, её начинали дорабатывать — всё равно альтернатив не было. Так что дорабатывали вне зависимости от того, насколько она оказывалась удачной (с современной точки зрения). Главное — чтобы давала результат.

Например, это касается установки рентгеновского излучения на основе олова с длиной волны 13,5 нм. Не очень удачный выбор, как выяснилось впоследствии, но на нём в дальнейшем строилось всё остальное. Когда вложились во что-то одно, менять это на что-то другое уже не так просто.

Но такой излучатель имеет массу проблем:

Процесс очень «грязный», нужны сложные системы защиты оптики от загрязнений.
Низкий ресурс работы коллектора и генератора капель.
Большие потери излучения в системах защиты.
Использование крупногабаритной системы на базе CO₂-лазера мощностью свыше 20 кВт. Лазер с двумя «сеятелями» и четырьмя ступенями усиления настолько велик, что его приходится размещать на отдельном этаже под рентгеновским литографом:
Питер Лейбингер, технический директор TRUMPF, показывает CO₂-лазер мощностью 40 кВт с частотой повторения импульсов 50 кГц, который питает генератор рентгеновского излучения.
В российском же проекте предполагается использовать другой источник рентгеновского излучения — на основе ксенона, первые публикации по которому появились в научной литературе только в 2018 году.

Он в разы компактнее и намного «чище» оловянного, что сильно продлевает жизнь оптике, пелликлам (защитным и фильтрующим ультратонким плёнкам) и т.п., позволяет сделать их более прозрачными и даёт излучение более короткой длины волны — 11,2 нм вместо 13,5, что увеличивает оптическое разрешение на 20%.

При сохранении же оптического разрешения, уменьшение длины волны позволяет кратно упростить и удешевить объектив, не добиваясь у него большой числовой апертуры.

Кроме всего вышеперечисленного, лазер, использующийся для работы рентгеновского излучателя, требуется на порядок меньшей мощности.