SK>Установка литографии ЗНТЦ будет работать в диапазоне 130 нм с пластинами 150 и 200 мм и длинной волны 248 нм. Поддерживает подложки Si,SOI, SiN/SiO2. ЗНТЦ планирует к 2027 г. перейти на технологию 90 нм, а к 2030 г. — освоить 65 нм.

SK>Установка оптимизирована для фотонных интегральных схем. По словам Абросимова, использовать такую установку для этих целей экономически эффективно, т.к. набор масок для 130 нм стоит $750 тыс. А цена для 90нм составляет $1 млн. Для активных устройств экономия составит около $3-5 млн на проект.

SK>К 2034 г. рынок фотонных интегральных схем в России составил $4,9 млрд. Из него $2,9 млрд займет рынок, который закроет процесс на 130 нм и более.