Оптимизация EUV-литографии
От: 4058  
Дата: 06.08.24 18:02
Оценка: 4 (3) :)

Профессор Tsumoru Shintake из Окинавского института науки и технологий (OIST) разработал существенно упрощённый инструмент для EUV-литографии, который значительно дешевле сканеров производства ASML.

Новая система использует в своей оптической проекционной установке только два зеркала, что значительно отличается от традиционной конфигурации из шести зеркал. Новый укороченный оптический путь позволяет более 10 % начальной EUV-энергии достигать пластины по сравнению с примерно 1 % в используемых в настоящее время установках ...

Благодаря оптимизированному оптическому пути система использует источник EUV-излучения мощностью всего 20 Вт, а общее энергопотребление составляет менее 100 кВт, что на порядок ниже, чем потребность традиционных систем EUV-литографии. Благодаря сниженному энергопотреблению также упрощается и удешевляется система охлаждения.

Экономические последствия изобретения весьма многообещающие. Ожидается, что мировой рынок EUV-литографии вырастет с $8,9 млрд в 2024 году до $17,4 млрд к 2030 году.

Источник: https://3dnews.ru/1109072/razrabotan-uproshchyonniy-euvskaner-kotoriy-moget-znachitelno-udeshevit-proizvodstvo-chipov
 
Подождите ...
Wait...
Пока на собственное сообщение не было ответов, его можно удалить.