От: | xma | ||
Дата: | 24.11.22 00:27 | ||
Оценка: | 4 (2) -4 |
При этом мощность перспективной установки будет «в разы превосходить те, что делает ASML»
Тесное сотрудничество российских коллективов за два-три года позволит создать рентгеновский литограф для производства современных чипов. Об этом заявил научный руководитель Национального центра физики и математики (НЦФМ) академик и бывший президент РАН Александр Сергеев.
мы предлагаем с помощью наших технологий разработать альтернативу, — мы будем использовать для фокусировки этого излучения рентгеновские зеркала, которые разработаны в институте прикладной физики РАН и в Федеральном ядерном центре в Сарове, а также разработки института им. Седакова. Если соединить эти три разработки, то мы получим литографическую систему с мощностью, которая в разы превосходит те, что делает ASML», — заявил академик Сергеев.